高溫實驗用真空熔煉噴鑄甩帶一體爐真空甩鑄爐）設(shè)備特點 設(shè)備用途：

該設(shè)備主要用于各種金屬材料在真空或氣氛保護條件下的感應(yīng)熔煉及快冷甩帶成型；適合各種材料的非晶/微晶薄帶或薄片的制備。

A· 實驗型采用冷滾旋淬法制備薄片或薄帶非晶材料

B· 采用噴鑄法制備塊狀或棒狀合金試樣，可用于制備大塊非晶材料 結(jié)構(gòu)組成 本設(shè)備主要由真空腔體、熔煉裝置、噴鑄裝置、甩帶裝置、抽真空系統(tǒng)、爐體支架、電氣控制系統(tǒng)、水冷卻系統(tǒng)等組成。

一、高溫實驗用真空熔煉噴鑄甩帶一體爐結(jié)構(gòu)及功能簡介

采用臥式爐體，側(cè)部開門結(jié)構(gòu)，進(jìn)出料方便，爐體結(jié)構(gòu)緊湊，占地空間較小，采用高頻電源加熱，主要供大專院校及科研單位等在真空或保護氣氛條件下對金屬材料（如不銹鋼、鎳基合金、銅、合金鋼、鎳鈷合金、稀土釹鐵錋等）的熔煉澆鑄處理，也可進(jìn)行合金鋼的真空精煉處理及精密鑄造。還可進(jìn)行非晶甩帶，噴鑄和壓鑄處理，一臺設(shè)備，多種功能。

二、技術(shù)參數(shù)

1、每次甩帶、噴鑄合金：50g~100g

2、每次熔煉澆鑄合金：50~1000g

3、高真空室真空度：≤10×10E-3Pa

4、加熱電源功率：25Kw；頻率范圍：30~80KHz

5、可通入氮氣、氬氣等惰性氣體

7、銅輥直徑：220mm，寬度：40mm

8、銅輥線速度：5~70m/S

9、水流量：3~100L/min